| MOC | PRODUKT | PRŮMĚR | KRYSTAL | TYP | DOPANT | ORIENTACE | TLOUŠŤKA | ODPOR | |
| 100 SIN3 | Nitrid | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | 10~20 | 3000A LPCVD Low Stress SiN, Stress<100MPa tensile,DSP |
| 200 BGAg | Ag | 200 | CZ | SODÍK | SODÍK | 100 | 180±10 | SODÍK | BackGrinding+TiNiAg (1kA/2kA/10kA) |
| 200 PAAg | Ag | 200 | CZ | SODÍK | SODÍK | 100 | 180±10 | SODÍK | BackGrinding+TiNiAg (1kA/2kA/10kA) |
| 912101KST2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101PW2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101PW2D | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101PW2DA | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A Suché chlorované tepelné žíhání s formovacím plynem |
| 912101PW1 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 1000A mokrý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101PW1D | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 1000A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101TW1 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 1000A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101X2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912101HF2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 912102X5 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | 1~10 | 5μm tepelný oxid, T0230700053 |
| 912103X | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | 1~10 | 5000A tepelný oxid, NOTCH |
| 203171PW3 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 675±15 | <0.005 | 3000A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 203171SVM2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 203171TW2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| PMB1935X | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | N | PH | 100 | 525±25 | 0.001~0.002 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 911291TWW1 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.005 | 500A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 911291TW2 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 302061 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.02 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 911291PW2 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.005 | 2850A tepelný oxid, TTV<5μm |
| 911291PW2D | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm |
| 911291PW2DA | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | <0.005 | 2850A Suché chlorované tepelné žíhání s formovacím plynem |
| 911261 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±25 | <0.005 | 3000A tepelný oxid |
| 012041 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±25 | <0.005 | 500A tepelný oxid |
| 812100 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±25 | 1~30 | 1% ce% bcm tepelné oxid % 2c zářez |
| 69375 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 508±15 | 0.0007~0.0013 | 300 nm |
| 712152 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±25 | 5~10 | 1000A suchý tepelný oxid |
| T0230400010 | KYSLIČNÍK | 100 | FZ HPS | P | B | 100 | 525±10 | >10000 | 15μm tepelný oxid, TTV<5 |
| 810003 | KYSLIČNÍK | 50.8 | CZ | P | B | 100 | 280~320 | <0.0015 | 3000A suchý tepelný oxid |
| 906211 | KYSLIČNÍK | 100 | MCZ | P | B | 100 | 400±15 | 0.01~0.02 | 3μm tepelný oxid |
| 906201 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Ph | 100 | 625±15 | 1.9~2.8 | 2μm tepelný oxid, G406112A |
| T0230500009 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±15 | 10~20 | 2μm tepelný oxid |
| 905312KST5 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 610~640 | 0~0.0035 | 500A tepelný oxid |
| 905312KST1 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 610~640 | 0~0.0035 | 1000A suchý tepelný oxid |
| 906271 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±25 | 0.001~0.005 | Tepelný oxid 900A |
| 911283 | KYSLIČNÍK | 300 | CZ | P | B | 100 | 775±25 | 1~100 | 5000A tepelný oxid |
| 905303X | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 390~410 | 10~20 | 1,5μm tepelný oxid, 444870-3 |
| 200429 | KYSLIČNÍK | 300 | MCZ | P | B | 100 | 775±25 | 1~100 | 2850A tepelný oxid |
| 009141X5 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±15 | 1~10 | 5μm tepelný oxid, DSP |
| T021100065 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±25 | 1~100 | 375nm tepelný oxid |
| T022090039 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±25 | 0.01~0.02 | 2μm tepelný oxid |
| T0201000215 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | N | Sb | 100 | 525±20 | 0.001~0.02 | 5μm tepelný oxid |
| E856006AX | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 625±15 | 3.26~4.24 | 5μm tepelný oxid |
| B4985X | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | SODÍK | SODÍK | 100 | 725±50/25 | SODÍK | 5000A tepelný oxid |
| 105202 | KYSLIČNÍK | 100 | CZ | P | B | 100 | 525±25 | 1~10 | 2850A tepelný oxid |
| 107061 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 1~100 | 5000A tepelný oxid |
| 304251 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 1~100 | 5000A tepelný oxid |
| 107021X5 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 700~750 | NA | 500A tepelný oxid, AA-- |
| T0200300155 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 0~0.02 | 10μm tepelný oxid |
| T0200300113 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 0~0.02 | 5μm tepelný oxid |
| T0200300098 | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 0~0.02 | 3μm tepelný oxid |
| TO21100092 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | P | B | 100 | 675±25 | 1~100 | 15μm tepelný oxid, index lomu (@1550nm): 1,4458±0,0002 |
| 809003X7 | KYSLIČNÍK | 300 | MCZ | P | B | 100 | 775±25 | 1~100 | Tepelný oxid 7000A |
| 809003X10 | KYSLIČNÍK | 300 | MCZ | P | B | 100 | 775±25 | 1~100 | 10000A tepelný oxid |
| 905312X2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 610~640 | 0~0.0035 | 2850A suchý tepelný oxid |
| 203171X2 | KYSLIČNÍK | 150 | CZ | N | Tak jako | 100 | 675±15 | <0.005 | 2850A suchý tepelný oxid, TTV<5μm, AB |
| 200TEOS10KA | KYSLIČNÍK | 200 | CZ | P | B | 100 | 725±25 | 1~100 | 10000A PECVD TEOS |
Aktualizace inventáře 4,6,8palcového křemíkového plátku_202404-Oxide&Nitrid
Apr 03, 2024
Zanechat vzkaz














