Proces změny velikosti plátku/odjádrování
Proces, který řeže oplatky s větším-průměrem na menší-wafery, který se primárně používá pro speciální požadavky na rozměry, přípravu vzorků nebo-výrobu v malých objemech.
Proces zaoblení/zkosení hran
Proces, který brousí a leští hrany plátků, aby se odstranily odštěpky a mikrotrhlinky vzniklé při krájení, čímž se zlepšuje mechanická pevnost plátků. Obvykle se provádí jako následný krok k procesu změny velikosti plátku.
V rámci našeho procesu změny velikosti také poskytujeme služby přesného zaoblení hran (zkosení hran), abychom eliminovali odlamování hran, mikrotrhliny a koncentraci napětí, což výrazně zlepšuje mechanickou pevnost plátku a výtěžnost zpracování.
Pravidelně zpracováváme destičky ve všech standardních průměrech: 2" (50 mm), 3" (75 mm), 4" (100 mm), 5" (125 mm), 6" (150 mm), 8" (200 mm) a 12" (300 mm), s vlastními rozměry na vyžádání.

Schopnosti
Níže jsou uvedeny naše možnosti změny velikosti waferu:
Zpracujte jakýkoli průměr plátku až do 300 mm
Zpracujte wafery tenké až 0,150 mm
Dosáhněte dokončených plátků se změněnou velikostí od 50 mm do 200 mm
Vyrobte více plátků se změněnou velikostí z jednoho plátku. Například můžeme vyrobit dva 100mm wafery z jednoho 200mm waferu.
Produkujte SEMI-standardní plochý +/- 0.002 stupňů
Vytvářejte SEMI-standardní zářez v waferech se změněnou velikostí
Tolerance +/- 0.100 mm na vnější průměr
Tolerance +/- 0.050 mm na středovou polohu
Posuňte střed plátku, abyste maximalizovali výtěžnost matrice
Laserem vyryjte ID plátku na plátek se změněnou velikostí pro kontrolu identity plátku
Zaoblení / zkosení hran plátku
Vysoce čistá deionizovaná (DI) vodní brusná kapalina{0}
Ořízněte, ztenčujte nebo sešlápněte okraj plátků se změněnou velikostí
Kostky kompletní kostky ze zbytků původního plátku












